香港理工學院的研究人員開發(fā)出一種化學涂布，這預示著自清洗服裝的出世。
這種涂布能夠暴露在陽光下能夠消除灰塵，這種涂布包含了眾多二氧化鈦微粒。這些微粒的直徑小于20納米，大約是人類頭發(fā)直接的1/2500，幫助毀掉污處的碳分子。
這項研究是香港理工學院的研究員Walid Daoud和約翰.辛承擔的。
2004-06-18 00:00:00
香港理工學院的研究人員開發(fā)出一種化學涂布，這預示著自清洗服裝的出世。
這種涂布能夠暴露在陽光下能夠消除灰塵，這種涂布包含了眾多二氧化鈦微粒。這些微粒的直徑小于20納米，大約是人類頭發(fā)直接的1/2500，幫助毀掉污處的碳分子。
這項研究是香港理工學院的研究員Walid Daoud和約翰.辛承擔的。
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